가우스랩스, 차세대 가상 계측 솔루션 출시…"SK하이닉스 식각 공정에 도입"

입력 2024-08-13 09:40 수정 2024-08-13 11:02
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가상 계측 품질ㆍ사용자 편의 동시 개선
SK하이닉스 식각 공정에도 확대 도입

▲가우스랩스가 차세대 가상 계측 솔루션 'Panoptes VM 2.0'을 출시했다. (자료제공=SK하이닉스)
▲가우스랩스가 차세대 가상 계측 솔루션 'Panoptes VM 2.0'을 출시했다. (자료제공=SK하이닉스)

가우스랩스가 인공지능(AI) 기반 가상 계측 솔루션 'Panoptes VM(Virtual Metrology)'의 2.0 버전을 출시했다고 13일 밝혔다.

계측은 반도체 제조 과정에서 반도체 소자의 물리적, 전기적 특성이 생산 공정별로 제대로 충족됐는지 측정하는 작업이다.

Panoptes VM은 장비에 설치된 센서에서 수집한 데이터를 활용해 제조 공정 결과를 예측한다. 이 솔루션을 적용하면 물리적인 전수 계측 없이도 모든 제품의 공정 결괏값을 예측할 수 있어 시간과 자원을 획기적으로 줄일 수 있다.

가우스랩스 관계자는 "이번에 출시한 Panoptes VM 2.0은 신규 모델링 기능들을 적용해 기존 버전 대비 예측 정확도와 사용성을 크게 개선했다"며 "산업용 AI 기술 혁신을 통해 산업 현장에서 공정 전반의 혁신을 주도하겠다"고 말했다.

SK하이닉스가 투자한 산업용 AI 기업인 가우스랩스는 2022년 11월 Panoptes VM 1.0을 출시했다. SK하이닉스는 같은 해 12월부터 양산 팹(Fab)에 도입해 박막 증착 공정에 적용했다. 그 후 Panoptes VM을 통해 가상 계측한 결괏값을 APC(Advanced Process Control)와 연동해 공정 산포를 약 29% 개선했고, 수율 또한 향상되는 효과를 얻었다.

SK하이닉스는 성능이 개선된 이번 제품을 식각 공정까지 확대 적용하기로 했다. 식각은 웨이퍼에 액체 또는 기체의 부식액을 이용해 불필요한 부분을 선택적으로 제거해 반도체 회로 패턴을 만드는 과정이다.

이를 위해 가우스랩스는 '멀티 스텝 모델링' 기능을 이번 솔루션에 추가했다. 이는 예측하고자 하는 공정과 앞서 진행된 공정의 데이터를 함께 활용해 모델링을 할 수 있는 기능이다. 이전 공정의 영향을 많이 받는 식각 공정에 이 기능을 활용하면 가상 계측의 정확도를 높일 수 있다.

가우스랩스는 유사 공정의 데이터를 통합해 가상 계측에 활용, 데이터 부족으로 발생할 수 있는 문제를 최소화한 '유사 공정 통합 모델링' 기능과 데이터 특성에 따른 최적의 예측 알고리즘을 자동으로 선택해주는 '알고리즘 자동 선정' 기능도 추가해 가상 계측 품질과 사용자 편의를 동시에 개선했다고 설명했다.

김영한 가우스랩스 대표는 "지난 4년간의 노력이 가장 정밀한 제조 산업이라 불리는 반도체 분야에서 의미 있는 결과를 내고 있는 만큼, 여기서 얻은 산업용 AI 기술력을 바탕으로 글로벌 시장을 개척해 나가겠다"고 말했다.

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